氧化钇 Y 2 ​O 3（纳米 / 高纯，聚焦陶瓷涂层、热喷涂、搭配氧化钆 / 氧化镝）

氧化钇 Y 2 O 3（纳米 / 高纯，聚焦陶瓷涂层、热喷涂、搭配氧化钆 / 氧化镝）

基础理化参数

。分子式：Y2O3，白色粉末，立方晶系，熔点2430° C，不溶于水，碱，溶于浓强酸；空气中易吸水，吸附

CO2生成碳酸钇，必须密封干燥储存

。纯度分级：工业3N(99.9%)，电子4N(99.999%，半导体喷涂)，光学/靶材5N(99.999%)

。纳米规格：粒径15~50nm，比表面积大，烧结活性高高，涂层掺杂分散均匀；喷涂造粒粉：15~45m球形颗粒(APS专用)

三大核心应用(陶瓷涂层优先)

1。半导体耐氟等离子陶瓷涂层(用量)

Y2O3涂层是刻蚀腔体，耐SF6,CF4,HF氟等离子腐蚀，远优于氧化铝

1.APS大气等离子喷涂(量产)

基材：铝合金腔体，聚焦环；涂层厚度80~250m;

工艺参数：电流500~600A，电压75~80V，喷涂巨离90~120mm，送粉12~20g/min，孔隙率3%~5%，喷涂后无机封孔处理。

2.SPS悬浮等离子喷涂(超薄致密层)

纳米Y2O3+去离子水+分散剂配20%固含量浆料，涂层10~50m，孔隙〈2%，高端芯片设备专用。

3。复合涂层：Y2O3+Gd2O3+Dy2O3三元复配喷涂，兼顾耐氟+中子屏蔽+高温抗蚀。

2。钇稳定氧化锆YSZ(热障/结构陶瓷核心)